0.6 纳米精度的 “羲之” 电子束光刻机在杭州诞生，中国量子芯片研发从此握上自主刻笔。

8 月 13 日，浙江大学余杭量子研究院自主研发的全国首台国产商业化电子束光刻机 “羲之” 正式进入应用测试阶段。这台设备精度达 0.6 纳米，线宽 8 纳米，技术指标比肩国际主流设备。

在中国科技大学的实验室里，研发团队将这台形似大型钢柜的设备称为 “纳米神笔”—— 它能在单根头发丝上雕刻出整座城市的地图。

突破封锁的 “中国刻刀”

“羲之” 的命名颇具深意 —— 研发团队将设备的高能电子束比作王羲之的毛笔，赋予其 “在芯片上精妙书写” 的文化意象。

这台设备专攻量子芯片与新型半导体研发的核心环节，通过高能电子束直接在硅基上 “手写” 电路。与传统光刻技术不同，“羲之” 无需掩膜版辅助，可实现设计图案的灵活修改，特别适合芯片研发初期的反复调试。

相当于人类头发丝直径的八万分之一，使设备能在微观尺度上实现精密的电路绘制。

“羲之” 的诞生具有重大破局意义。此前，此类高端设备受到国际出口管制，中国科学技术大学、之江实验室等国内顶尖科研机构长期无法采购同类设备。这台国产设备不仅填补了国内空白，更构建起完整的国产替代链条。

技术突破背后是浙江大学与余杭区共建的成果转化体系支撑。今年 7 月启动的省级教育科技人才改革试点中，校企通过 “需求清单 – 揭榜攻关 – 全程陪跑” 的创新模式，打通了实验室到生产线的转化通道。

在定价策略上，“羲之” 表现出明显的市场竞争力 —— 低于国际市场均价，目前已与华为海思等企业及多家科研机构展开接洽。

“羲之” 电子束光刻机的成功应用测试，是我国高端半导体核心装备国产化的重大突破。这把自主可控的 “中国刻刀”，为加速国产高端芯片研发进程、抢占未来科技制高点提供了坚实的装备基础。

虽然电子束光刻技术目前尚难替代 EUV 光刻机的大规模量产角色，但其在量子芯片等前沿领域的独特优势，为我国开辟了新的技术赛道。

在城西科创大走廊，科技创新与产业创新的 “两新融合” 正成为常态。院士工作站落地对接企业需求，概念验证项目征集打通成果转化的 “最前一公里”，这些机制持续推动着硬科技突破。

“羲之” 的定价低于国际市场均价，已与华为海思等企业及多家科研机构展开接洽。

这把 “中国刻刀” 的价值不仅在于技术参数本身，更在于其背后的创新机制 —— 浙大、余杭区政府与校友经济园共同打造的 “需求清单 – 揭榜攻关 – 全程陪跑” 模式，正将更多实验室里的突破，转化为产业前线的新质生产力。